Question

【題目】工業(yè)上制備純硅反應的熱化學方程式為：SiCl4(g)+2H2(g)Si(s)+4HCl(g)； △H = + QkJ/mol (Q>0)，一定溫度、壓強下，將一定量反應物通入密閉容器進行以上反應（此條件下為可逆反應），下列敘述正確的是 （ ）

A. 反應過程中，若將硅移出體系，能提高SiCl4的轉(zhuǎn)化率

B. 若反應開始時SiCl4為1mol，則達平衡時，吸收熱量為QkJ

C. 反應至4min時，若HCl濃度為0.12mol/L，則H2的反應速率為0.03mol/(Lmin)

D. 當反應吸收熱量為0.025QkJ時，生成的HCl通入100mL 1mol/L的NaOH溶液恰好完全反應

Answer 1

【答案】D

【解析】

試題分析：A、硅是固體，濃度視為常數(shù)，減少硅的量，平衡不移動，故錯誤；B、此反應是可逆反應，不能完全進行到底，吸收的熱量小于QkJ，故錯誤；C、消耗H2的濃度為0.12×2/4mol·L－1=0.06mol·L－1，根據(jù)化學反應速率的定義，v(B)=0.06/4mol/(L·min)=0.015mol/(L·min)，故錯誤；D、吸收熱量為0.025QkJ，生成HCl物質(zhì)的量為4×0.025Q/Q mol=0.1mol，與100mL1mol·L－1NaOH恰好完全反應，故正確。