Question

下列有關硅及其化合物的敘述中，不正確的是（　　）

A．刻蝕玻璃的原理為：SiO₂+2NaOH?Na₂SiO₃+H₂O

B．硅的化學性質不活潑，常溫下不易與氧氣、氯氣、硫酸等反應

C．硅在地殼中的含量僅次于氧，是應用廣泛的半導體材料

D．光導纖維的主要成分是二氧化硅

Answer 1

分析：A．二氧化硅能與氫氟酸反應；
B．硅常溫下性質穩定；
C．硅在地殼中的含量僅次于氧；
D．光導纖維的成分是二氧化硅．

解答：解：A．刻蝕玻璃的原理為：SiO₂+4HF=SiF₄↑+2H₂O，故A錯誤；
B．硅常溫下不易與氧氣、氯氣、硫酸等反應，故B正確；
C．硅是良好的半導體材料，故C正確；
D．二氧化硅是光導纖維的成分，故D正確．
故選A．

點評：本題考查硅和二氧化硅的性質和用途，明確刻蝕玻璃的原理是解題的關鍵，題目難度不大．