Question

【題目】近年來，我國的電子工業迅速發展，造成了大量的電路板蝕刻廢液的產生和排放。蝕刻液主要有酸性的(HCl-H2O2)、傳統的FeCl3型(HCl-FeCl3)等方法．蝕刻廢液中含有大量的Cu2+，廢液的回收利用可減少銅資源的流失．幾種蝕刻廢液的常用處理方法如下：

（1）FeCl3型酸性廢液用還原法處理是利用Fe和Cl2分別作為還原劑和氧化劑，可回收銅并使蝕刻液再生。發生的主要化學反應有：Fe+Cu2+=Fe2++Cu、Fe+2H+=Fe2++H2↑，還有_______________、__________________．(用離子方程式表示)。

（2）HCl-H2O2型蝕刻液蝕刻過程中發生的化學反應用化學方程式可表示為：__________。

（3）處理H2O2型酸性廢液回收Cu2(OH)2CO3的過程中需控制反應的溫度，當溫度高于80℃時，產品顏色發暗，其原因可能是____________________________________。

Answer 1

【答案】Fe+2Fe3+=3Fe2+2Fe2++Cl2=2Fe3++2Cl-Cu+2HCl+H2O2=CuCl2+2H2O溫度高使產物部分分解產生黑色的CuO，導致產品顏色發暗

【解析】

（1）FeCl3型酸性廢液中含有Fe3＋和Fe2＋，Fe3＋具有氧化性，可與Fe反應，Fe2＋具有還原性，可與Cl2反應；（2）H2O2在酸性條件下具有強氧化性，可氧化Cu生成CuCl2；（3）Cu2（OH）2CO3易分解生成黑色CuO．

（1）FeCl3型酸性廢液中含有Fe3＋和Fe2＋，Fe3＋具有氧化性，可與Fe反應，離子方程式為Fe+2Fe3＋=3Fe2＋，Fe2＋具有還原性，可與Cl2反應，離子方程式為2Fe2＋+Cl2=2Fe3＋+2Cl－；（2）H2O2在酸性條件下具有強氧化性，可氧化Cu生成CuCl2，反應的化學方程式為Cu+2HCl+H2O2=CuCl2+2H2O；

（3）當溫度高于80℃時，Cu2（OH）2CO3易分解生成黑色CuO，導致產品顏色發暗．