Question

晶體硅是一種重要的非金屬材料，制備高純硅的主要流程如圖所示：



已知SiHCl₃能與H₂O強(qiáng)烈反應(yīng)，生成一種可燃燒的單質(zhì)氣體和兩種酸．請(qǐng)回答下列問題：
（1）寫出制備粗硅的化學(xué)方程式______．
（2）在生成SiHCl₃的反應(yīng)中，還原劑與還原產(chǎn)物的質(zhì)量比為______．
（3）整個(gè)制備過程必須控制無水無氧，若有水可能發(fā)生的反應(yīng)是______．
（4）下列關(guān)于硅及其化合物的敘述錯(cuò)誤的是______（填字母代號(hào)）
A．二氧化硅晶體中硅氧原子間以共價(jià)鍵結(jié)合
B．用于現(xiàn)代通訊的光導(dǎo)纖維的主要成分是高純度的硅
C．硅與碳位于同一主族，性質(zhì)相似，在自然界中廣泛存在著游離態(tài)的硅
D．SiO₂和CO₂都是酸性氧化物，均可與強(qiáng)堿（如NaOH）溶液反應(yīng)，而不與任何酸反應(yīng)．

Answer 1

（1）根據(jù)流程圖結(jié)合氧化還原反應(yīng)可知反應(yīng)為：SiO₂+2C

高溫  .

Si+2CO，故答案為：SiO₂+2C

高溫  .

Si+2CO；
（2）根據(jù)流程圖可知反應(yīng)為：2Si+6HCl

高溫

2SiHCl₃+2H₂，還原劑為Si，還原產(chǎn)物為H₂，其質(zhì)量之比為（28×2）：（2×2）=14：1，故答案為：14：1；
（3）根據(jù)信息可知SiHCl₃能與H₂O強(qiáng)烈反應(yīng)，生成一種可燃燒的單質(zhì)氣體和兩種酸：3SiHCl₃+3H₂O=H₂SiO₃+H₂↑+3HCl，同時(shí)碳能與水蒸汽反應(yīng)：C+H₂O

高溫  .

CO+H₂，
故答案為：3SiHCl₃+3H₂O=H₂SiO₃+H₂↑+3HCl、C+H₂O

高溫  .

CO+H₂．
（4）A、因二氧化硅晶體中硅氧原子間以共價(jià)鍵結(jié)合，故A正確；
B、因光導(dǎo)纖維的主要成分是二氧化硅，故B錯(cuò)誤；
C、因硅元素的存在形式只有化合態(tài)沒有游離態(tài)，故C錯(cuò)誤；
D、因SiO₂能與HF酸反應(yīng)，故D錯(cuò)誤；
故選：BCD．