Question

光刻膠是一種應用廣泛的光敏材料，其合成路線如下（部分試劑和產物略去）：
已知：
Ⅰ．（R，R’為烴基或氫）
Ⅱ．（R，R’為烴基）
（1）A分子中含氧官能團名稱為         。
（2）羧酸X的電離方程式為         。
（3）C物質可發生的反應類型為         （填字母序號）。
a．加聚反應    b． 酯化反應   c． 還原反應    d．縮聚反應
（4）B與Ag(NH₃)₂OH反應的化學方程式為         。
（5）乙炔和羧酸X加成生成E，E的核磁共振氫譜為三組峰，且峰面積比為3:2:1，E能發生水解反應，則E的結構簡式為         。
（6）與C具有相同官能團且含有苯環的同分異構體有4種，其結構簡式分別為
、、        和        。
（7）D和G反應生成光刻膠的化學方程式為         。

Answer 1

（1）醛基
（2）CH₃COOHCH₃COO^-+H⁺
（3）a  b   c（選對兩個給1分，錯選或多選為0分）
（4）

（5）CH₃COOCH=CH₂
（6）、
（7）

一定條件

（此方程式不寫條件不扣分）

試題分析：根據D，可以反推出A為，B為，C為，羧酸X為CH₃COOH，E為，F為；
（1）分子中含氧官能團名稱為醛基
（2）羧酸CH₃COOH的電離方程式為CH₃COOHCH₃COO^-+H⁺
（3）含有碳碳雙鍵，羧基，苯環，可發生的反應類型為加聚反應，酯化反應，還原反應，不能發生縮聚反應。
（4）與Ag(NH₃)₂OH反應的化學方程式為
+
（5）E的結構簡式為CH₃COOCH=CH₂。
（6）與具有相同官能團且含有苯環的同分異構體有4種，其結構簡式分別為、、、。
（7）D和G反應生成光刻膠的化學方程式為

一定條件

。

考點：