硅及其化合物對人類現代文明的發展具有特殊貢獻。請回答下列有關問題：
(1)硅原子的結構示意圖：________。
(2)下列物品或設備所用的材料屬于硅酸鹽的是________。
①長江三峽水泥大壩 ②石英光導纖維 ③陶瓷坩堝
④普通玻璃 ⑤硅太陽能電池
| A．①②⑤ | B．③④⑤ | C．②③④ | D．①③④ |
閱讀快車系列答案科目：高中化學 來源： 題型：填空題
二氧化氯泡騰片，有效成分（ClO2）是一種高效、安全的殺菌、消毒劑。
方法一：氯化鈉電解法是一種可靠的工業生產ClO2氣體的方法。該法工藝原理如圖。其過程是將食鹽水在特定條件下電解得到的氯酸鈉（NaClO3）與鹽酸反應生成ClO2。
（1）工藝中可利用的單質有__________（填化學式），發生器中生成ClO2的化學方程式為_____________。
（2）此法的缺點主要是______________________________________。
方法二：最近，科學家又研究出了一種新的制備方法，纖維素還原法制ClO2，其原理是：纖維素水解得到的最終產物X與NaClO3反應生成ClO2。
（3）配平方程式： □ （X） +□NaClO3+□H2SO4→□ClO2↑+□CO2↑+□H2O+□______
若反應中產生4.48L（折算成標準狀況下）氣體，電子轉移________ 個。
（4）ClO2和Cl2均能將電鍍廢水中的CN—氧化為無毒的物質，自身被還原為Cl—。處理含CN—相同量的電鍍廢水，所需Cl2的物質的量是ClO2的_______倍。
方法三：實驗室常用氯酸鈉(NaClO3)和亞硫酸鈉(Na2SO3)用硫酸酸化，加熱制備二氧化氯，化學反應方程式為：2NaClO3+Na2SO3＋H2SO4
2ClO2↑+2Na2SO4＋H2O
（5）反應中的Na2SO3溶液中存在如下平衡：H2O
H++OH-和 ________________（用離子方程式表示）.
常溫下，0.1mol/L該溶液中離子濃度由大到小排列__________________（用離子符號表示）
（6）常溫下，已知NaHSO3溶液呈酸性，在Na2SO3溶液中滴加稀鹽酸至中性時，溶質的主要成分有________________。（用化學式表示）
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科目：高中化學 來源： 題型：填空題
硫酸和硝酸是中學階段常見的兩種強酸,請就兩者與金屬銅的反應情況回答下列問題:
(1)在100 mL 18 mol·L-1的濃硫酸中加入過量的銅片,加熱使之充分反應,產生的氣體在標準狀況下的體積可能是 (填寫代號);
| A．7.32 L | B．6.72 L | C．20.16 L | D．30.24 L |
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白玉的化學式可用CaxMgySipO22(OH)2表示（也可用Ca、Mg、Si、H的氧化物表示）。
（1）取8.l0g白玉粉末灼燒至恒重，固體減少了0.18g，則白玉的摩爾質量為______。
（2）另取4.05g白玉粉末加入l mol/L的鹽酸l00mL中充分溶解，最終得不溶氧化物2. 40g.過濾，將濾液和洗滌液合并后往其中加入足量的鐵屑，得到氣體336mL(標準狀況下).則
①p=_________；
②白玉的化學式（用氧化物的形式）表示為________。
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科目：高中化學 來源： 題型：填空題
在NO2、HBr、SO2和NH3四種氣體中，有顏色的氣體是 ；在相同條件下，密度最小的氣體是 ；能使潤濕的紅色石蕊試紙變藍的氣體是 ；兩氣體相遇冒白煙，這兩種氣體是 。
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科目：高中化學 來源： 題型：填空題
硝酸銨是含氮量較高的化肥，生產流程如下（產物水均已略去）：
（1）反應④的化學方程式為3NO2＋H2O = 2HNO3＋NO，該反應的氧化劑為__________，還原劑為__________。
（2）補充并配平反應②的化學方程式：____NH3 ＋___O2
____NO+ ________
（3）化學反應_______(填序號)是非氧化還原反應，離子方程式為_________________
（4）有人設計了一個反應來制備硝酸NO2+NH3 — HNO3+H2O（未配平），你認為該反應 （填“能”或“不能”）發生，理由是______________________。
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硅在地殼中的含量較高，硅及其化合物的開發由來已久，在現代生活中有廣泛應用。回答下列問題：
（1）陶瓷、水泥和玻璃是常用的傳統的無機非金屬材料,其中生產普通玻璃的主要原料有 。
（2）高純硅是現代信息、半導體和光伏發電等產業都需要的基礎材料。工業上提純硅有多種路線，其中一種工藝流程示意圖及主要反應如下：
①工業上用石英砂和焦炭在電弧爐中高溫加熱到1600℃-1800℃除生成粗硅外，也可以生產碳化硅，則在電弧爐內可能發生的反應的化學方程式為 。
②在流化床反應的產物中，SiHCl3大約占85%，還有SiCl4、SiH2Cl2、SiH3Cl等，粗硅生成SiHCl3的化學反應方程式 。
（3）有關物質的沸點數據如下表，提純SiHCl3的主要工藝操作依次是沉降、冷凝和 ;SiHCl3極易水解，其完全水解的產物為 。
| 物質 | Si | SiCl4 | SiHCl3 | SiH2Cl2 | SiH3Cl | HCl | SiH4 |
| 沸點/℃ | 2355 | 57．6 | 31．8 | 8．2 | -30．4 | -84．9 | -111．9 |
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請回答下列問題:
（1）制備硅半導體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷
還原法是當前制備高純硅的主要方法,生產過程示意圖如下: 
①寫出由純
制備高純硅的化學方程式: ____________________________________。
②整個制備過程必須嚴格控制無水無氧。遇水劇烈反應生成
、HCl和另一種物質,配平后的化學反應方程式為___________________________;
還原過程中若混入
可能引起的后果是____________________________________。
（2）下列有關硅材料的說法正確的是_________ (填字母)。
| A．碳化硅化學性質穩定,可用于生產耐高溫水泥 |
| B．氮化硅硬度大、熔點高,可用于制作高溫陶瓷和軸承 |
| C．高純度的二氧化硅可用于制造高性能通訊材料——光導纖維 |
| D．普通玻璃是由純堿、石灰石和石英砂制成的,其熔點很高 |
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科目：高中化學 來源： 題型：填空題
金剛石SiC具有優良的耐磨、耐腐蝕特性，應用廣泛.
(1)碳與同周期元素Q的單質化合僅能生成兩種常見氣態化合物，其中一種化合物H為非極性分子，碳元素在周期表中的位置是，Q是，R的電子式為.
(2)一定條件下，Na還原CCl4可制備金剛石，反應結束冷卻至室溫后，回收CCl4的實驗操作名稱為，除去粗產品中少量鈉的試劑為.
(3)碳還原制SiC,其粗產品中雜質為Si和SiO2.先將20.0g
粗產品加入到過量的NaOH溶液中充分反應，收集到0.1mol氫氣，過濾得SiC固體11.4g，濾液稀釋到1L，生成氫氣的離子方程式為，硅酸鈉的物質的量濃度為
(4)下列敘述正確的有(填序號)，ks5u
①Na還原CCl4的反應、Cl2與H2O的反應均是置換反應②水晶、干冰熔化時克服粒子間作用力的類型相同③Na2SiO3溶液與SO3的反應可用于推斷Si與S的非金屬性強弱
④鈉、鋰分別在空氣中燃燒，生成的氧化物中陰陽離子數目比均為1:2
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(2)D (3)干燥條件下蒸餾 SiCl4＋3H2O=H2SiO3＋4HCl，HCl遇水蒸氣產生白霧
