3．半圓柱體P放在粗糙的水平面上.其右端豎直放置一擋板MN.在P和MN之間放有一個光滑均勻的小圓柱體Q.整個裝置處于靜止．現(xiàn)用外力使MN保持豎直且緩慢地向右移動.在Q落到地面以前.發(fā)現(xiàn)P始終保持靜止．在此過程中.下列說法中正確的是( ) A．MN對Q的彈力逐漸減小 B．地面對P的摩擦力逐漸增大C．P.Q間的彈力先減小后增大D．Q所受的合力逐漸增大【查看更多】

題目列表(包括答案和解析)

半圓柱體P放在粗糙的水平面上，其右端有固定放置的豎直擋板MN．在半圓柱體P和MN之間放有一個光滑均勻的小圓柱體Q，整個裝置處于靜止狀態(tài)．如圖所示是整個裝置的縱截面圖．若用外力使MN保持豎直且緩慢的向右移動，在Q落到地面以前發(fā)現(xiàn)P始終保持靜止，則MN對Q的彈力逐漸

增大

，地面對P的摩擦力逐漸

增大

．（選填“增大”“減小”或“不變”）

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半圓柱體P放在粗糙的水平面上，其右端有固定放置的豎直擋板MN．在半圓柱體P和MN之間放有一個光滑均勻的小圓柱體Q，整個裝置處于靜止狀態(tài)．如圖所示是整個裝置的縱截面圖．若用外力使MN保持豎直且緩慢的向右移動，在Q落到地面以前發(fā)現(xiàn)P始終保持靜止，則MN對Q的彈力逐漸______，地面對P的摩擦力逐漸______．（選填“增大”“減小”或“不變”）

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半圓柱體P放在粗糙的水平面上，其右端有豎直擋板MN。在P和MN之間放一個光滑均勻的小圓柱體Q。整個裝置處于靜止。右圖是這個裝置的縱截面圖，若用外力使MN保持豎直且緩慢地向右移動，在Q落到地面前，P始終保持靜止。此過程，下列說法中正確的是

A.MN對Q的彈力逐漸減小 B.地面對P的摩擦力逐漸增大

C.P、Q間的彈力先減小后增大 D.Q所受的合力逐漸增大

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半圓柱體P放在粗糙的水平面上，其右端有固定放置的豎直擋板MN．在半圓柱體P和MN之間放有一個光滑均勻的小圓柱體Q，整個裝置處于靜止狀態(tài)．如圖所示是整個裝置的縱截面圖．若用外力使MN保持豎直且緩慢的向右移動，在Q落到地面以前發(fā)現(xiàn)P始終保持靜止，則MN對Q的彈力逐漸，地面對P的摩擦力逐漸．（選填“增大”“減小”或“不變”）

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半圓柱體P放在粗糙的水平面上，其右端有固定放置的豎直擋板MN．在半圓柱體P和MN之間放有一個光滑均勻的小圓柱體Q，整個裝置處于靜止狀態(tài)．如圖所示是整個裝置的縱截面圖．若用外力使MN保持豎直且緩慢的向右移動，在Q落到地面以前發(fā)現(xiàn)P始終保持靜止，則MN對Q的彈力逐漸，地面對P的摩擦力逐漸．（選填“增大”“減小”或“不變”）

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1．A 2．D 3．B 4．B 5．D 6．C 7．BD 8．AD 9．ABD 10．ABC 11．AD 12．3.125； 13．（1）1.73；（2）1.04；14．（1）C；（2）10V，45Ω；15．（1）75m；（2）12s；16．（1）0.25V，a點高；（2）0.95J；3.93C 17．（1）；（2）；（3），方向與x軸正向夾角為；18．（1）3mg；（2）；（3）

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