某礦樣含有大量的CuS、少量鐵的氧化物及少量其他不溶于酸的雜質。某化學課外小組設計以下流程，以該礦樣為原料生產CuCl₂·2H₂O晶體。

已知：在20 ℃時，氯化銅的溶解度是73 g；常溫下，金屬離子開始沉淀和沉淀完全時的pH見下表。

某礦樣含有大量的CuS、少量鐵的氧化物及少量其他不溶于酸的雜質。某化學課外小組設計以下流程，以該礦樣為原料生產CuCl2·2H2O晶體。

已知：在20 ℃時，氯化銅的溶解度是73 g；常溫下，金屬離子開始沉淀和沉淀完全時的pH見下表。

回答下列問題：

（1）步驟①的焙燒過程中需要通入氧氣。在實驗室中使用中學化學常見物質，用如圖所示裝置制取氧氣，試寫出你熟悉的、符合上述條件的兩個化學方程式：______________________、________________________；

（2）在焙燒過程中還有廢氣產生，其中一種是主要的大氣污染物。若在實驗室中用堿液吸收處理，下列A、B、C裝置中可行的是________（填字母）；若選用甲裝置，則燒杯中的下層液體可以是________。

（3）步驟②酸浸過程中，需要用到3 mol·L－1的鹽酸100 mL，配制該鹽酸時。除了用到燒杯、玻璃棒、膠頭滴管外，還需要用到的儀器有________________。

（4）步驟④加入物質X的目的是______________________________________，物質X可以選用下列物質中的________。

A．氧化銅 B．稀鹽酸

C．氨水 D．氧化亞鐵

（5）在整個生產流程中，共需要進行________次過濾操作。

某礦樣含有大量的CuS、少量鐵的氧化物及少量其它不溶于酸的雜質．某化學課外小組設計以下流程，以該礦樣為原料生產CuCl₂?2H₂O晶體．

已知：在20℃時，氯化銅的溶解度是73g；常溫下，金屬離子開始沉淀和沉淀完全時的pH見下表．

金屬離子	開始形成氫氧化物沉淀的pH	完全形成氫氧化物沉淀的pH
Fe2+	7.0	9.0
Fe3+	1.9	3.2
Cu2+	4.7	6.7

回答下列問題：
（1）步驟①的焙燒過程中需要通入氧氣．在實驗室中使用中學化學常見物質用圖1所示裝置制取氧氣，試寫出你熟悉的、符合上述條件的兩個化學方程式______
（2）在焙燒過程中還有廢氣產生，其中一種是主要的大氣污染物．若在實驗室中以堿液吸收處理之，下列A、B、C裝置中可行的是______（填字母）；若選用甲裝置，則燒杯中的下層液體可以是______（填字母）；

（3）步驟②酸浸過程中，需要用到3mol/L的鹽酸100mL，配制該鹽酸溶液時，除了用到燒杯、玻璃棒、膠頭滴管外，還需要的儀器有______；
（4）步驟④加入物質X的目的是______，物質X可以選用下列物質中的______；
A．氧化銅　　B．稀鹽酸　　C．氨水　　D．氧化亞鐵
（5）在整個生產流程中，共需要進行______次過濾操作．

某礦樣含有大量的CuS 、少量鐵的氧化物及少量其它不溶于酸的雜質。某化學課外小組設計以下流程，以該礦樣為原料生產CuC1₂ · 2H₂O 晶體。

已知：在20 ℃ 時，氯化銅的溶解度是73g ；常溫下，金屬離子開始沉淀和沉淀完全時的pH 見下表。

回答下列間題：
（l）步驟①的焙燒過程中需要通入氧氣。在實驗室中使用中學化學常見物質、右圖所示裝置制取氧氣，試寫出你熟悉的、符合上述條件的兩個化學方程式                        、                           ；
（2）在焙燒過程中還有廢氣產生，其中一種是主要的大氣污染物。若在實驗室中以堿液吸收處理之，下列A、B、C 裝置中可行的是     （填字母）；若選用甲裝置，則燒杯中的下層液體可以是              ;

（3）步驟② 酸浸過程中，需要用到3 mol · L^-1的鹽酸100 mL，配制該鹽酸溶液時．除了用到燒杯、玻璃棒、膠頭滴管外，還需要的儀器有                    ;
（4）步驟④ 加入物質X 的目的是           ，物質X 可以選用下列物質中的       ;

A．氧化銅            B．稀鹽酸            C．氨水                 D．氧化亞鐵

（5）在整個生產流程中，共需要進行           次過濾操作。