【題目】下面關于硅的敘述中，正確的是（ ）
A. 粗硅制備單晶硅不涉及氧化還原反應
B. 硅是構成礦物和巖石的主要元素，硅在地殼中的含量在所有的元素中居第一位
C. 硅的化學性質不活潑，在自然界中可以以游離態存在
D. 硅在電子工業中，是重要的半導體材料
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【題目】工業上用粗鹽（含Ca2+、Mg2+、SO42﹣等雜質）為主要原料采用“侯氏制堿法”生產純堿和化肥NH4Cl，工藝流程如下圖所示．下列有關說法正確的是 （ ） 
A.對粗鹽溶液除雜可依次加入NaOH，Na2CO3、BaCl2 ， 再加入鹽酸調節溶液pH
B.飽和食鹽水中先通入的氣體為CO2
C.流程圖中的系列操作中一定需要玻璃棒
D.
如圖所示裝置可以比較Na2CO3和NaHCO3晶體的熱穩定性
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【題目】白磷有劇毒，白磷中毒可用硫酸銅溶液解毒，白磷與硫酸銅可以發生如下兩個反應：
1）2P+5CuSO4+8H2O═5Cu+2H3PO4+5H2SO4
2）11P+15CuSO4+24H2O═5Cu3P+6H3PO4+15H2SO4
下列有關說法中錯誤的是（ ）
A.上述兩個反應中，水既不是氧化劑也不是還原劑
B.上述兩個反應中，氧化產物都是H3PO4
C.反應（2）中，1mol CuSO4可氧化1/5molP
D.上述兩個反應中，氧化劑都只有硫酸銅
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【題目】HCOONa加熱分解時，固體失重率與溫度的關系如圖所示，發生的反應有：
2HCOONa 
Na2C2O4+H2↑ ①
2HCOONa Na2CO3+H2↑+CO↑②
Na2C2O4 Na2CO3+CO↑ ③
下列說法正確的是（ ）
A.T＜415℃，只有反應①發生
B.反應①、②不可能同時發生
C.570℃＜T＜600℃時，殘留固體的主要成分是Na2CO3
D.殘留固體中的m（Na2C2O4）=m（Na2CO3）時，反應①、②的反應速率相等
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【題目】已知A，B，C，D都是元素周期表中前36號的元素．A元素的一種核素沒有中子；B的基態原子核外電子有7種不同的運動狀態；C元素是無機非金屬材料的主角，它的單質可以用作電腦芯片；D元素是地殼中含量第二的金屬元素．請回答：
（1）BA3分子的立體結構是形，該化合物易溶于水，原因可能是（填選項字母）
A．該化合物分子是極性分子
B．該化合物分子可與水分子之間形成氫鍵
C．該化合物分子在水溶液中部分與水發生反應
（2）BA3的熔點比CA4的熔點 ， （填“高”或“低”）原因是 ．
（3）D位于元素周期表中第族，它的+3價離子的檢驗方法是： ．
（4）如圖是由C單質構成的晶體的一個晶胞，若設該晶胞的邊長為a cm，NA表示阿伏加德羅常數的值，則該晶體的密度是g/cm3 ． （只要求列出算式）． 
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【題目】N2和 H2在催化劑表面合成氨的微觀歷程及能量變化的示意圖如下，用 
、 
、 
分別表示N2、H2、NH3 ， 下列說法正確的是（ ） 
A.使用催化劑，合成氨反應放出的熱量減少
B.在該過程中，N2、H2斷鍵形成N原子和H原子
C.在該過程中，N原子和H原子形成了含有非極性鍵的NH3
D.合成氨反應中，反應物斷鍵吸收能量大于生成物形成新鍵釋放的能量
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【題目】有A、B、C、D、四種短周期元素，它們的原子序數依次增大，已知A和C原子最外層只有一個電子，C單質燃燒時的焰色為黃色，C單質在加熱條件下與B的單質充分反應可以產生淡黃色固體化合物，A單質與D單質可以發生化合反應，且反應條件可以是點燃或者光照，試根據以上敘述回答：
（1）寫出A、B、C、D的元素符號：ABCD
（2）寫出反應的化學方程式： ①A單質與D單質反應： ．
②C單質與B單質在加熱的條件下反應： ．
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【題目】把1mol X和1mol Y混合于2L的密閉容器中，發生如下反應 2X（g）+Y（g）=nZ（g）+2W（g），2min末X的物質的量為0.2mol，以Z的濃度表示的反應速率為0.1mol/（Lmin） 請回答：
（1）前2min以X的濃度表示的平均反應速率
（2）n值．
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【題目】一定量的鋅與100mL18.5molL﹣1的濃H2SO4充分反應后，鋅完全溶解，同時生成標準狀況下的氣體33.6L．將反應后的溶液稀釋至1L，測得溶液中c（H+）=0.1molL﹣1 ． 則生成的氣體中SO2和H2的體積比為（ ）
A.1：2
B.2：1
C.1：4
D.4：1
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