Question

【題目】按要求完成下列各題：

（1）粘土[主要成分Al2Si2O5(OH)4] 是制備陶瓷的原料，請以氧化物形式表示粘土的組成_____________。

（2）現用四氯化硅和氮氣在氫氣中加強熱發生反應，可制得高純度氮化硅，反應的化學方程式為_________________________。

（3）雕花玻璃是用氫氟酸對玻璃進行刻蝕，這一過程中發生反應的化學方程式為_______。

（4）明礬可用于凈水，請說明原因________________________。

（5）下圖，若A、B、C中均含同一種常見金屬元素，該元素在C中以陰離子形式存在， B是白色膠狀沉淀。

①實驗室中常用A與某種溶液反應制備B,請寫出該反應的離子方程式 _________________。

②A與C也可以反應生成B,請寫出反應的離子方程式___________________。

Answer 1

【答案】 Al2O3·2SiO2·2H2O 3SiCl4+2N2+6H2=Si3N4+12HCl SiO2+4HF=SiF4↑+2H2O 明礬溶于水產生的鋁離子水解生成氫氧化鋁膠體，氫氧化鋁膠體有較大的吸附面積，可以吸附水中懸浮的雜質，使雜質沉降 3NH3H2O +Al3+=Al（OH）3↓+3NH4+ Al3++3 [Al（OH）4]- =4Al（OH）3↓

【解析】（1）鋁的氧化物為Al2O3，硅的氧化物為SiO2，氫的氧化物為H2O，則根據活潑金屬氧化物、較活潑金屬氧化物、SiO2、H2O的順序可知，[Al2Si2O5(OH)4]可改成Al2O32SiO22H2O；

（2）現用四氯化硅和氮氣在氫氣中加強熱發生反應，可制得高純度氮化硅，同時生成氯化氫氣體，其反應的化學方程式為：3SiCl4+2N2+6H2=Si3N4+12HCl；

（3）雕花玻璃是用氫氟酸對玻璃進行刻蝕，這一過程中發生反應為氫氟酸與玻璃中的二氧化硅反應生成四氯化硅和水，其化學方程式為SiO2+4HF=SiF4↑+2H2O；

（4）明礬凈水是因為明礬溶于水產生的鋁離子水解生成氫氧化鋁膠體，氫氧化鋁膠體有較大的吸附面積，可以吸附水中懸浮的雜質，使雜質沉降；

（5）若A、B、C中均含同一種常見金屬元素，該元素在C中以陰離子形式存在， B是白色膠狀沉淀，由轉化關系可知，A含有鋁離子，B為氫氧化鋁，C含有[Al(OH)4]-，X為氫氧化鈉。故①A與某種溶液（可以選擇弱堿氨水）反應制備B反應的離子方程式為：3NH3H2O +Al3+=Al(OH)3↓+3NH4+；②A與C也可以反應生成B，其反應的離子方程式為：Al3++3 [Al(OH)4]- =4Al(OH)3↓。