Question

W、X、Y、Z是四種常見的短周期元素，其原子半徑隨原子序數變化如下圖所示。已知W的一種核素的質量數為18，中子數為10；X和Ne原子的核外電子數相差1；Y的單質是一種常見的半導體材料；Z的電負性在同周期主族元素中最大。

（1）X位于元素周期表中的位置             ；¹⁸W與X形成原子個數1：1的物質，該物質與H₂O反應的化學方程式               。（在化學式中標出質量數18）
（2）X的單質和Y的單質相比，熔點較高的是_____(寫化學式)；Z的氣態氫化物和溴化氫相比，較穩定的是_______(寫化學式)。
（3）Y與Z形成的化合物和足量水反應，生成一種弱酸和一種強酸，該反應的化學方程式是________。

Answer 1

（1）第三周期ⅠA族  2Na₂¹⁸O₂ + 2H₂O=2Na¹⁸OH + 2NaOH+ ¹⁸O₂（2分）
（2）Si   HCl
（3）SiCl₄＋3H₂O=H₂SiO₃↓＋4HCl（2分，其余為1分）

解析試題分析：W、X、Y、Z是四種常見的短周期元素，已知W的一種核素的質量數為18，中子數為10，則W元素原子的質子數為8，W為氧元素；X和Ne原子的核外電子數相差1，X為Na或F，X原子半徑大于氧原子，X為Na元素；Y的單質是一種常見的半導體材料，原子序數大于Na元素，Y為Si元素；Z的非金屬性在同周期元素中最強，Z為Cl元素；（1）X為Na，在元素周期表中的位置是第三周期ⅠA族；¹⁸W與X形成原子個數1：1的物質為Na₂¹⁸O₂，與H₂O反應的化學方程式為2Na₂¹⁸O₂ + 2H₂O=2Na¹⁸OH + 2NaOH+ ¹⁸O₂（2）根據晶體結構和鈉和硅的物理性質分析，鈉的熔點較低，硅熔點較高根據同主族元素性質遞變規律知，氯化氫比溴化氫穩定；（3）SiCl₄和足量的水反應，生成一種弱酸和一種強酸，反應方程式為：SiCl₄+4H₂O=H₄SiO₄↓+4HCl。
考點：考查元素推斷、位構性之間的關系及化學用語的書寫。