【題目】芯片是中美經貿摩擦的焦點之一。制造芯片的高純硅可以用下述方法制取（反應條件略），下列說法錯誤的是：
A. 反應①、③均為置換反應
B. SiCl4中Si的化合價為+4
C. Si是金屬元素，因此制造芯片的高純硅具有導電性
D. 硅原子的核電荷數為14
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【題目】（1）在25 ℃下，向濃度均為0.1 mol·L－1的MgCl2和CuCl2混合溶液中逐滴加入氨水，先生成________沉淀(填化學式)，生成該沉淀的離子方程式為___________。已知25 ℃時Ksp[Mg(OH)2]＝1.8×10－11，Ksp[Cu(OH)2]＝2.2×10－20。
（2）向BaCl2溶液中加入AgNO3和KBr，當兩種沉淀共存時，
＝________。[Ksp(AgBr)＝5.4×10－13，Ksp(AgCl)＝2.0×10－10]
（3）已知Fe(OH)3的溶度積常數Ksp＝1.1×10－36。室溫時在FeCl3溶液中滴加NaOH溶液，當溶液pH為3時，通過計算說明Fe3＋是否沉淀完全_______________________。(提示：當某離子濃度小于10－5 mol·L－1時可以認為該離子沉淀完全)
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【題目】水合肼(N2H4·H2O)為無色透明的油狀發(fā)煙液體，是一種重要的精細化工原料，其制備的反應原理為NaClO＋2NH3===N2H4·H2O＋NaCl。下列關于實驗室制備水合肼的操作不正確的是( )
甲
乙
丙
丁
A. 裝置甲中試劑X可以選擇生石灰 B. 裝置乙作為反應過程的安全瓶
C. 裝置丙制備水合肼時氨氣從b口進入 D. 裝置丁可用于吸收多余的尾氣
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【題目】指出下列反應中的氧化劑和還原劑，寫出發(fā)生氧化反應和還原反應的物質中對應元素的名稱：
（1）2KMnO4
K2MnO4+MnO2+O2↑，___________
（2）2KNO3+3C+SK2S+3CO2↑+N2↑，_________
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【題目】硫酸反應制取氫氣時，下列措施不能使氫氣生成速率加大的是( )
A. 對該反應體系加熱
B. 不用稀硫酸，改用98%的濃硫酸
C. 滴加少量CuSO4溶液
D. 不用鐵片，改用鐵粉
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【題目】某實驗小組依據反應AsO43-+2H++2I- AsO33-+I2+H2O設計左下圖原電池，探究pH對AsO43-氧化性的影響。測得電壓與pH的關系如右下圖，下列有關敘述錯誤的是
A. pH＞0.68時，甲燒杯中石墨為負極
B. pH=0.68時，反應處于平衡狀態(tài)
C. pH＞0.68時，氧化性I2＞AsO43-
D. pH=5時，負極電極反應式為2I--2e-=I2
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【題目】1L稀硝酸和稀硫酸的混合液，其物質的量濃度分別為0.1mol/L和0.4mol/L。若向該混合溶液中加入足量的銅粉，從離子反應的角度分析，則最多能溶解銅粉的質量為（ ）
A. 9.6gB. 6.4 gC. 3.2 gD. 2.4 g
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【題目】如圖所示，某化學興趣小組設計了一個燃料電池，并探究氯堿工業(yè)原理和粗銅精煉原理，其中乙裝置中X為陽離子交換膜。根據要求回答相關問題:
(1)通入氧氣的電極為_____(填“正極”或“負極”)，通氫氣一極的電極反應式為_________________；
(2)鐵電極為_______(填“陽極”或“陰極”)，乙裝置中電解反應的化學方程式為_________________。
(3)若在標準狀況下，有1.12 L氧氣參加反應，丙裝置中陰極增重的質量為______g；
(4)某粗銅中含有鐵、金、銀和鉑等雜質，通過電解精制后，為從電解液中制得硫酸銅晶體(CuSO4·5H2O),設計了如下工藝流程:
已知:幾種金屬陽離子開始沉淀和沉淀完全的pH:
氫氧化物開始沉淀時的pH | 氫氧化物沉淀完全時的pH | |
Fe3+ | 1.9 | 3.2 |
Fe2+ | 7.0 | 9.0 |
Cu2+ | 4.7 | 6.7 |
①步驟I中加入試劑A的目的是_____________________________，試劑A應選擇______(填序號);
a.氯氣 b.過氧化氫 C.酸性高錳酸鉀溶液
選擇該試劑的原因_____________________________________________________；
②步驟II中試劑B為_________，調節(jié)pH的范圍是___________；
③步驟III的操作是加熱濃縮、_______、___________。
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