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工業(yè)上制備純硅反應的熱化學方程式：SiCl₄（g）+2H₂（g）?Si（s）+4HCl（g）△H=+QkJ/mol（Q＞0），一定溫度、壓強下，將一定量的反應物通入密閉容器中進行以上反應，下列敘述正確的是（　　）

工業(yè)上制備純硅反應的熱化學方程式：SiCl₄（g）+2H₂（g）?Si（s）+4HCl（g）△H=+QkJ/mol（Q＞0），一定溫度、壓強下，將一定量的反應物通入密閉容器中進行以上反應，下列敘述正確的是（　　）

A．反應過程中，減小壓強能提高SiCl4的轉(zhuǎn)化率

B．若反應開始時SiCl4為1mol，則達平衡時，吸收熱量為QkJ

C．當反應吸收熱量為0.025QkJ時，生成的HCl通入100mL 1mol/L的NaOH溶液得到的溶液呈中性

D．反應至4min時，若HCl濃度為0.12mol/L，則2min時，HCl濃度為0.06mol/L

（2013?濰坊模擬）工業(yè)上電解飽和食鹽水能制取多種化工原料，其中部分原料可用于制備多晶硅．下圖1是離子交換膜法（允許鈉離子通過，不允許氫氧根與氯離子通過）電解飽和食鹽水，電解槽陽極產(chǎn)生的氣體是，NaOH溶液的出口為（填字母），精制飽和食鹽水的進口為（填字母），干燥塔中應使用的液體是．

（1）多晶硅主要采用SiHCl₃還原工藝生產(chǎn)，其副產(chǎn)物SiCl₄的綜合利用受到廣泛關注．SiCl₄可制氣相白炭黑（與光導纖維主要原料相同），方法為高溫下SiCl₄、H₂、O₂反應，產(chǎn)物有兩種，化學方程式為．SiCl₄可轉(zhuǎn)化為SiCl₃而循環(huán)使用．一定條件下，在20L恒容密閉容器中反應3SiCl₄（g）+2H₂（g）+Si（s）═4SiHCl₃（g）達平衡后，H₂與SiHCl₃物質(zhì)的量濃度分別為0.140mol/L和0.020mol/L，若H₂全部來源于離子交換膜法的電解產(chǎn)物，理論上需消耗NaCl的質(zhì)量為kg．
（2）如圖2，實驗室制備H₂和Cl₂通常采用下列反應：
Zn+H₂SO₄?ZnSO4+H2↑，MnO2+4HCl(濃)

△ .

.

MnCl2+Cl2↑+2H2O
據(jù)此，從下列所給儀器裝置中選擇制備并收集H₂的裝置（填代號）和制備并收集干燥、純凈Cl₂的裝置（填代號）．
可選用制備氣體的裝置：
（3）采用無膜電解槽電解飽和食鹽水，可制取氯酸鈉，同時生成氫氣．現(xiàn)制得氯酸鈉213.0kg，則生成氫氣m³（標準狀況）．（忽略可能存在的其他反應）

（2011?內(nèi)江三模）某溫度、壓強下，將一定量反應物通入密閉容器進行反應Si（s）+4HCl（g）?SiCl₄（g）+2H₂（g）；△H=-QkJ/mol（Q＞0），下列說法正確的是（　　）